大族激光荣获2023年度国家科学技术进步奖二等奖

长沙晚报掌上长沙6月26日讯（全媒体记者 朱泽寰）6月24日，全国科技大会、国家科学技术奖励大会、两院院士大会在京召开，2023年度国家科学技术奖揭晓，共评选出250个项目。其中，大族激光联合广东工业大学等完成的“面向高性能芯片的高密度互连封装制造关键技术及装备”荣获国家科技进步奖二等奖。

“面向高性能芯片的高密度互连封装制造关键技术及装备”项目由广东省提名，是大族激光与广东工业大学、广东佛智芯微电子技术研究有限公司、安捷利美维电子(厦门)有限责任公司等单位长期合作取得的研究成果。

据悉，公司在集成电路领域提供全制程一体化解决方案，致力推动中国“芯”征程。大族激光旗下全资子公司深圳市大族半导体装备科技有限公司凭借卓越的技术创新及综合实力，曾摘得2022年度“广东省科技进步奖”一等奖及“深圳市科技进步奖”二等奖。近年来，大族半导体不断探索新型科研形式，先后推出涂胶显影、清洗、湿法刻蚀、剥离去胶等设备；突破封锁，推出大族激光首台Film Cut (OLED EAC制程设备)及国内首台高真空激光设备Laser Driling（OLED蒸镀段制程设备）等。

国家科学技术进步奖是国务院设立的国家科学技术奖5大奖项之一。此次获奖是对公司技术创新、产学研技术成果落地、高新技术产业化，以及校企合作多元化、深入化等的高度认可，大族激光将继续积极打造产业链、创新链、人才链等相互融合的创新生态，激发产业活力和发展动能，全力打造在全省、全国具有影响力的创新高地。